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IMC淺析

2017-07-24  瀏覽量:10430

何靜

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由于SnAgCu無鉛焊料中Sn的含量較高,焊接溫度也比較高,導(dǎo)致了焊點(diǎn)中Cu的溶解速度和界面金屬間化合物的生長速度遠(yuǎn)高于SnPb系焊料焊點(diǎn)中的情況。 本文以SnAgCu系無鉛焊料與Cu基板間的交互作用為例,介紹IMC的形成、形貌與性質(zhì)。 

 

1. IMC的定義

金屬間化合物簡稱為IMC,是指金屬與金屬、金屬與類金屬之間以金屬鍵或共價(jià)鍵結(jié)合形成的有序晶體結(jié)構(gòu)化合物。焊錫與被焊底金屬之間,在熱量足夠的條件下,錫原子和被焊金屬原子(如銅、鎳)相互結(jié)合、滲入、遷移及擴(kuò)散等動作,在兩者之間形成一層類似“錫合金”的化合物。

 

2. IMC的特點(diǎn)

(1)其生長速度與溫度成正比,常溫中較慢。

(2)在室溫下脆性大,延展性差,很容易斷裂。

(3)低密度。

(4)高熔點(diǎn)。

 

3. IMC對焊接的影響

微小厚度的IMC都會形成焊料與基板之間穩(wěn)固的連接,較厚的IMC在熱循環(huán)的作用下會引起界面處的應(yīng)力集中,導(dǎo)致脆性斷裂,甚至帶來整個(gè)焊錫體的松弛。IMC對焊接性能的影響是很復(fù)雜的,IMC越厚,焊點(diǎn)在熱疲勞測試中越容易失效,其失效模式主要是斷裂,裂紋通常發(fā)生在焊點(diǎn)內(nèi)部IMC與焊料形成的界面處。

 

一旦焊盤原有的熔錫層或噴錫層,其與底銅之間已出現(xiàn)較厚間距過小的IMC后,對該焊墊再續(xù)作焊接時(shí)會有很大的妨礙,也就是在焊錫性或沾錫性上都將會出現(xiàn)劣化的情形。

 

4. IMC的形成和生長規(guī)律

SnAgCu界面IMC的形成分二個(gè)階段,第一階段是焊接過程中Cu基板與液態(tài)焊料之間形成的IMC,第二階段是焊后服役過程中Cu基板與固態(tài)焊料之間形成的IMC。一般認(rèn)為,焊接過程中IMC的形成是界面化學(xué)反應(yīng)為主導(dǎo)的機(jī)制,服役過程中IMC的演變是元素?cái)U(kuò)散為主導(dǎo)的機(jī)制。這兩個(gè)階段的IMC的形貌和生長動力學(xué)有十分明顯的差別。

 

焊點(diǎn)形成后,SnAgCu-Cu界面存在Cu6Sn5和Cu3Sn兩種金屬間化合物。Cu6Sn5位于焊料一側(cè),較厚,呈扇貝形向液態(tài)的焊料中生長,導(dǎo)致IMC和焊料邊界的粗糙形貌,在焊接過程中形成;Cu3Sn位于Cu基板和Cu6Sn5之間,較薄 ,在服役過程中形成。

 

美信檢測

 

焊接過程中,Cu基板與液態(tài)焊料發(fā)生冶金接觸后,固態(tài)Cu向液態(tài)焊料中溶解,緊鄰Cu基板的液態(tài)焊料中便形成了一層飽和的Cu,Cu的溶解達(dá)到局部平衡狀態(tài)時(shí),IMC便在此形成。Cu6Sn5的形成,消耗了飽和態(tài)的液態(tài)焊料中的Cu,隨著Cu6Sn5的結(jié)晶和相互連接,在Cu基板和焊料的界面上形成了一層連續(xù)的IMC,這層連續(xù)分布的IMC阻斷了Cu 基板向液態(tài)焊料進(jìn)一步溶解的通路。Sn和Cu6Sn5處于平衡狀態(tài),固態(tài)Cu與Cu6Sn5層的界面為非平衡狀態(tài)。一旦溫度足以激活Cu原子與Sn原子反應(yīng),在Cu基板與Cu6Sn5層的界面上便會依賴固相擴(kuò)散形成更穩(wěn)定的Cu3Sn。

 

除了上述兩種IMC,此外還有空洞產(chǎn)生。Cu和Sn的擴(kuò)散是非平衡擴(kuò)散,從原子水平來看,因Cu基板向焊料中擴(kuò)散而遺留在Cu基板表面上的原子空位并未由焊料中擴(kuò)散來的Sn原子及時(shí)占據(jù),便會在Cu3Sn界面上形成部分永久空位,這些空位的聚集便形成了空洞。空洞的形成和長大會引起Cu-Cu3Sn界面脫層。

 

焊接過程中Cu基板與液態(tài)焊料之間形成的IMC主要由界面化學(xué)反應(yīng)決定,目前沒有可以描述此過程中的IMC生長規(guī)律的理論和方法。焊后服役過程中Cu基板與固態(tài)焊料之間形成的IMC主要由元素?cái)U(kuò)散為主導(dǎo),F(xiàn)ick擴(kuò)散定律被應(yīng)用于描述這一階段IMC的生長規(guī)律,IMC的厚度為L2=Dt,D為擴(kuò)散系數(shù),t為擴(kuò)散時(shí)間。

 

5. 如何適當(dāng)控制IMC

Au/Ni/Cu三層結(jié)構(gòu)是一種廣泛應(yīng)用在電子封裝器件中采用的焊盤結(jié)構(gòu)。 Au層作為Ni表面的保護(hù)膜,具有良好的導(dǎo)電性能、潤濕性能和防腐蝕性能等。Ni層由于在釬料中溶解速率很慢,可作為Cu層的阻隔層以防止Cu6Sn5,Cu3Sn等IMC的過量形成。

 

另外,在化學(xué)鍍Ni工藝中,鍍層中含有一定量的P元素。研究發(fā)現(xiàn),在回流焊過程中,P不會溶入焊料,并且在Ni層與IMC層形成由Ni,P和Sn富集的高應(yīng)力層。P的含量對IMC的厚度有一定影響,鍍層中P含量較高時(shí),形成在Ni層和IMC之間的富P層有效的阻止了Ni參入反應(yīng),減少IMC生成幾率,從而降低了IMC厚度。

 

6. 總結(jié)

SnAgCu系焊料合金與Cu基板間在焊接中,形成的較薄的IMC層保證了焊料和基板的冶金結(jié)合,但服役過程中IMC的過度生長會導(dǎo)致界面的弱化機(jī)械強(qiáng)度甚至開裂。

   

目前,對SnAgCu-Cu界面IMC生長的機(jī)理雖然從擴(kuò)散理論上有一定的認(rèn)識,但對IMC生長形貌及其對破壞行為的影響還缺乏定量表征的合適參量,對SnAgCu-Cu界面IMC生長動力學(xué)的研究才剛剛開始。

 

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